金屬成分分析光譜儀OES8000是的二代CCD譜光譜儀制造技術（數字化技術替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術）、通道不受限制 ；引進歐洲技術、同際光譜儀技術同步，內能生產真空CCD譜技術光譜儀的制造商；基體范圍內通道改變、增加不需費用升級多基體方便，無須變動增加硬件 ；優良的數據穩定性，同樣品不同的時間段分析，可獲得良好的數據致性 ；體積小、重量輕， 移動安裝方便 ；高集成度、高性、高穩定性 ；節電、節材、能耗只是普通光譜儀50%。
- 2、分析速度快捷，20秒內測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過設置預燃時間及標線，使儀器用短的時間達到優的分析效果；
- 4、特殊的光室結構設計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的半；
- 6、開放式的電極架設計，可以調整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；
- 8、HEPS數字化固態光源，適應各種不同材料 ；
- 10、銅火花臺底座，提高散熱性及堅固性能；
- 12、采用鎢材料電極，電極使用壽命更長，并設計了電極自吹掃功能，清潔電極更加容易；
- 14、儀器與計算機之間采用以太網連接，抗干擾性能好，外部計算機升級與儀器配置無關，使儀器具有更好的適用性；
技術性能及參數
1.分光室設計
帕邢-龍格結構,羅蘭圓直徑350mm
波長范圍140 – 800nm
像素分辨率10pm
恒溫34℃±0.5℃
特殊材質鑄造，光室形變小
2.凹面光柵
刻線密度3600l/mm
級光譜線色散率：1.2 nm/mm
3.檢測器
高性能線陣CCD
4.分析時間
依樣品種類而不同，般少于30秒
5.激發光源
數字等離子火花光源技術
高能預燃技術 (HEPS)
頻率100-1000Hz
電流1-80A
6.激發臺
4mm樣品臺分析間隙
噴射電極技術
無待機流量，低氬氣消耗
7.尺寸和重量
高450mm 長750 mm 寬800 mm
85 kg
8.功率
功率1500W
待機功率70W
OES8000廣泛應用于冶金、鑄造、機械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領域的生產工藝控制，爐前化驗，中心實驗室成品檢驗。OES8000譜直讀光譜儀體積小、穩定性好、檢測限低、分析速度快、運行成本低、操作維護方便，是控制產品質量的理想選擇。
是的二代CCD譜制造技術（數字化技術替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術）、通道不受限制 ；引進歐洲技術、同際光譜儀技術同步，內能生產真空CCD譜技術光譜儀的制造商；基體范圍內通道改變、增加不需費用升級多基體方便，無須變動增加硬件 ；優良的數據穩定性，同樣品不同的時間段分析，可獲得良好的數據致性 ；體積小、重量輕， 移動安裝方便 ；高集成度、高性、高穩定性 ；節電、節材、能耗只是普通光譜儀50%。
金屬元素光譜分析儀主要特點：
- 2、分析速度快捷，20秒內測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過設置預燃時間及標線，使儀器用短的時間達到優的分析效果；
- 4、特殊的光室結構設計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的半；
- 6、開放式的電極架設計，可以調整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；
- 8、HEPS數字化固態光源，適應各種不同材料 ；
- 10、銅火花臺底座，提高散熱性及堅固性能；
- 12、采用鎢材料電極，電極使用壽命更長，并設計了電極自吹掃功能，清潔電極更加容易；
- 14、儀器與計算機之間采用以太網連接，抗干擾性能好，外部計算機升級與儀器配置無關，使儀器具有更好的適用性；
- 工作條件
工作溫度：15-30℃
相對濕度：≤70%
電 源：220±5V，單相50Hz，接地電阻＜1Ω
實驗室無震動、粉塵、強電磁干擾、強氣流、腐蝕性氣體OES8000廣泛應用于冶金、鑄造、機械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領域的生產工藝控制，爐前化驗，中心實驗室成品檢驗。OES8000金屬成分分析光譜儀體積小、穩定性好、檢測限低、分析速度快、運行成本低、操作維護方便，是控制產品質量的理想選擇。
廠家介紹
是專業生產CCD譜光譜儀、波長色散光譜儀、ROHS檢測儀，氣相色譜質譜聯用儀,鍍層測厚儀，電感耦合等離子體發射光譜儀,ROHS分析儀，X射線鍍層測厚儀，X熒光光譜儀，ROHS測量儀，，ROHS2.0分析儀，XRF，X熒光光譜儀，汽油中硅含量檢測儀， ROHS檢測儀器，手持式合金分析儀等，涉及的儀器設備主要有EDX1800B,Thick800A，Thick8000，ICP2060T,GCMS6800，ICPMS2000等。
被授予 “江蘇省企業”，“江蘇省軟件企業”，“江蘇省科技創新示范企業”，“江蘇省重點軟件企業”等榮譽稱號。產品具有際*的技術水平，X熒光光譜儀（ROHS檢測儀）系列產品被認定為“家重點新產品”和“江蘇省產品”。產品品種齊，為環境保護與安、工業測試與分析等眾多領域提供檢測方案。
