AREO 480 全自動清洗機，主要清洗卷式的半導體器件，利用溶劑加熱侵泡清洗，熱純水漂洗，噴淋漂洗，熱風循環干燥等工藝來保證產品的清洗的潔凈度要求。
半導體清洗是指將半導體器件在生產加工過程中的污垢、油污、雜質等有害物質進行清洗，以確保半導體器件的品質和性能。
在半導體工業中，清洗過程對產品的成功生產和性能起著至關重要的作用。半導體清洗的主要目的是去除半導體器件表面和內部的污垢和雜質，以確保產品的可靠性和穩定性。此外，半導體清洗還可以減少生產過程中的缺陷率、提高產品的可靠性和壽命、降低生產成本。
半導體清洗一般采用以下幾種清洗設備：
超聲波清洗機：超聲波清洗機是一種通過高頻聲波產生的微小氣泡來清洗半導體器件表面和內部污垢的設備。其清洗效果高效且不會對器件造成損害，廣泛應用于半導體清洗領域。
氣相清洗機：氣相清洗機是一種采用氣體為清洗介質的清洗設備，通常使用高純度的氫氣、氮氣等。它具有清洗速度快、無介質殘留、適用于高精度半導體器件等優點。
