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EQP等離子體質量和能量分析質譜儀

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱北京英格海德分析技術有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2024/2/2 14:32:02
  • 訪問次數315
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北京英格海德分析技術有限公司是分析儀器制造商在中國的代理。多年來,我們在客戶中建立了良好的聲譽。我們的客戶多數都是工作在新技術研究的前沿,如催化化學、氫能研究、等離子體物理、表面科學、大氣環境監測、半導體材料和微納米測量領域。我們與他們保持著密切的、積極的關系。 我們在為客戶提供儀器設備的同時,還為他們提供了及時周到的售后服務,讓用戶無后顧之憂,使其專心科研。
The EQP system directly measures mass and energy of both positive and negative process ions, measuring masses up to 2500 amu and ion energies up to 1000 eV.
EQP等離子體質量和能量分析質譜儀 產品信息

Hiden EQP是一臺結合質量和能量分析的儀器(Mass and Energy Analyser for Plasma Diagnostics),用于分析等離子過程中陰、陽離子、中性粒子以及自由基。

  

· 通過視口、接地電極和驅動電極進行分析

       · 軟件控制的離子汲取系統,以使等離子體擾動最小
       · 
所有能量范圍內,離子行程的最小擾動,及恒定離子傳輸
       · 
可調諧的離子源,用于電子附著選件的表觀電勢質譜分析
       · Penning
規和互鎖裝置可提供過壓保護


 

·  高靈敏度 / 穩定的脈沖離子計數檢測器,有7個數量級的動態范圍
·  
帶差式泵的三級過濾四極桿,質量數范圍至2500amu

·  45°靜電扇區分析器,掃描能量增量 0.05 eV / 0.25eV FWHM

·  1000eV 選配,,漂浮電壓可選至10keVFaraday 檢測器用于高密度等離子體
·  Mu-Metal
Radio-metal 屏蔽可選,高壓操作可選
· 
信號選通分辨率0.1μs,用于研究脈沖等離子體或能量、質量分布隨時間的變化
· 
通過RS232RS485Ethernet LAN,控制軟件MASsoft

EQP Mass and Energy Plasma Analyser (3.3 MB)

EQP Poster A3 size (254 KB)

EQP Poster A1 size (2.53 MB)

Mass Spectrometers for Thin Films, Plasma and Surface Engineering (1.1 MB)

AP0280 Advantages of HIPIMS of Silver for Improved E. coli Inactivation (248 KB)

AP0319 High power impulse magnetron sputtering (HIPIMS) and traditional pulsed sputtering (DCMSP) Ag-surfaces leading to E. coli inactivation (233KB)

AP0322 Composition and Species Evolution in a Laser-induced LuMnO3 Plasma (381 KB)

AP0371 In-situ Monitoring of the Growth of Silver Thin Film – the Influence of Sputtering Gas (283 KB)

AP-EQP-0001 - Negative-ion Surface Production in Hydrogen Plasmas (286 KB)

AP-EQP-0002 - Highly selective etching of SiO2 over Si3N4 and Si in capacitively coupled plasma employing C5HF7 gas (658 KB)

Mass and Energy Spectra of Plasmas 50 ns Time Resolved Measurements

Atmospheric Plasma Analysis by Molecular Beam MS (1.38 MB)

Atmospheric Pressure Plasma Analysis ICPIG (256 KB)

Effects of Pulsing on the P-CFUBMS of CrAIN Coatings (3.6 MB)

Ion Energy Distributions for a DC Plasma (144 KB)

Mass Spectroscopy of Metastable Atomic Species in Gas Analysis and Processing Plasmas at High Spectrometer Source Pressures - AVS 2011 (1.6 MB)

Surface Analysis by Plasma Assisted Desorption Ionisation Mass Spectrometry (PADI-MS) (195 KB)

Energy/Mass Spectrometer Analyser and Langmuir Probe Diagnostics for HIPIMS (1.88 MB)

Plasma Diagnostics in High Power Impulse Magnetron Sputtering Discharges - TIRI JSFS 2012 Tokyo YAG (3.52 MB)

AmesTechnology Capabilities and Facilities | Plasma Diagnostics

Research featuring data from the Hiden Analytical EQP Mass and Energy Analyser for Plasma Diagnostics

PSI – Paul Scherrer Institut | Plasma & Thin Film Analysis

Plasma and Thin Film Analysis


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