環(huán)保在線>產(chǎn)品庫>環(huán)境檢測儀器>氣體檢測儀器>空氣質(zhì)量自動監(jiān)測系統(tǒng)>>Post-CMP清洗設備

Post-CMP清洗設備

參考價	面議

參考價

面議

具體成交價以合同協(xié)議為準

公司名稱盛美半導體設備（上海）股份有限公司
品牌
型號
所在地
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
更新時間2023/8/12 7:33:07
訪問次數(shù)1290

產(chǎn)品標簽:

在線詢價收藏產(chǎn)品進入展商展臺

聯(lián)系方式：市場部13112345679查看聯(lián)系方式

聯(lián)系我們時請說明是環(huán)保在線上看到的信息，謝謝!

索取相關資料

公司介紹主營產(chǎn)品

盛美成立于2005年，是一家注冊在上海浦東新區(qū)張江高科技園區(qū)、具備領先技術的半導體設備制造商。公司集研發(fā)、設計、制造、銷售于一體，主要產(chǎn)品包括半導體清洗設備、半導體電鍍設備和先進封裝濕法設備等。公司堅持差異化競爭和創(chuàng)新的發(fā)展戰(zhàn)略，通過自主研發(fā)的單片兆聲波清洗技術、單片槽式組合清洗技術、電鍍技術、無應力拋光技術和立式爐管技術等，向全球晶圓制造、先進封裝及其他客戶提供定制化的設備及工藝解決方案，有效提升客戶的生產(chǎn)效率、提升產(chǎn)品良率并降低生產(chǎn)成本。

盛美具有高新技術企業(yè)資質(zhì)，承擔十一五國家科技重大專項課題“65-45nm銅互連無應力拋光設備研發(fā)項目”的研發(fā)和十二五國家科技重大專項課題“20-14nm銅互連鍍銅設備研發(fā)與應用”和“45-22納米單片晶圓清洗裝備研發(fā)與應用”的研發(fā)。公司立足自主創(chuàng)新，通過多年的技術研發(fā)和工藝積累，成功研發(fā)出首個的 SAPS/TEBO 兆聲波清洗技術和 Tahoe 單片槽式組合清洗技術，可應用于 28nm及以下技術節(jié)點的晶圓清洗領域，可有效解決刻蝕后有機沾污和顆粒的清洗難題，并大幅減少濃硫酸等化學試劑的使用量，在幫助客戶降低生產(chǎn)成本的同時，滿足節(jié)能減排的要求。

盛美憑借先進的技術和豐富的產(chǎn)品線，已發(fā)展成為中國大陸少數(shù)具有一定國際競爭力的半導體專用設備提供商，產(chǎn)品得到眾多國內(nèi)外主流半導體廠商的認可，并取得良好的市場口碑。

展開顯示更多內(nèi)容

清洗設備

產(chǎn)品簡介在線詢價

盛美上海的Post-CMP設備用于制造高質(zhì)量襯底化學機械研磨(CMP)工藝之后的清洗，有濕進干出（WIDO）和干進干出（DIDO）兩種配置。該清洗設備6英寸和8英寸的配置適用于碳化硅（SiC）襯底制造；8英寸和12英寸配置適用于硅片制造。

Post-CMP清洗設備產(chǎn)品信息