該鍍膜機可鍍制不銹鋼、鉻、鈦、鎢等多種金屬，也可鍍制合金膜或化合物，也可在工件表面上鍍制單層或多層介質膜或金屬 ZrN、TiCN、TiAlN 等硬質或裝飾涂層，具有鍍膜速度快、膜層質量好的優點。

◆ 真空室：鍍膜室尺寸900mm×900mm×1000mm；箱式、前開門結構；

◆ 抽氣系統：機械泵：前級泵70L/S；維持泵：2X-8旋片泵；羅茨泵：ZJP-150；

   擴散泵：KT-500；分子泵: FF250/1600（選配）；

◆ 極限真空：5×10-4Pa； 恢復真空：5×10-3 Pa（小于20min）；

◆ 鍍膜系統：平面磁控靶或圓柱磁控靶/直流功率源或中頻功率源；小弧源/柱弧源；

◆ 輔助鍍膜系統：脈沖偏壓電源，條形離子源（選配）；

◆ 膜厚測量系統：石英晶體膜厚監控系統（選配）；

◆ 進氣系統：自動壓強控制+多路質量流量控制系統；

◆ 操作方式：手動按鍵式；

   控制型系統配置：研華工控機，80G硬盤，512內存+日本三菱PLC；10 英寸液晶顯示觸摸屏界面（選配）；

◆ 旋轉夾具：公轉/自轉夾具,速度從 0～15r/min 無級可調；

◆ 工件烘烤：室溫～300℃；

◆ 供電電源:  三相380V，50Hz。

◆特殊規格可定制。