ulvac-kiko 水晶振蕩式成膜器 成膜控制器 CRTM-9200
ulvac-kiko 水晶振蕩式成膜器 成膜控制器 CRTM-9200
CRTM-9200作為CRTM-9100G的后繼機，繼承了前機型的功能和設計，維持了兼容性。
優秀的膜厚及成膜速率分辨能力（0.0022A），是實現了低速率蒸發控制和高精度的膜厚控制的水晶振蕩式成膜控制器。
最多可同時控制4個蒸發源。
特點
優異的膜厚和速率分辨率（0.0022A）使其成為低速蒸發成膜控制的理想選擇。
可以同時控制4個蒸發源。 （添加選項時）
可實現多層膜厚控制，最多可達99層。
程序可以保存到USB中。
通過使用多層計算功能（MLC功能）對于在石英板上的多層成膜，可以精確地測量膜厚度。
用途
蒸發時的膜厚及速率控制
UNECS系列是可以高速、高精度測量薄膜膜厚和折射率的分光橢偏儀。
采用特的測量方式，實現了高速測量和機體的小型化。
我們的產品陣容包括特的便攜式，自動式和對應真空環境的設備內置式類型。
UNECS-Portable，測量部的重量只有2.2kg重量輕且緊湊，是易于攜帶的便攜式類型。
可用于真空設備現場驗收試驗，可以通過分離樣品臺直接放在樣品上進行大尺寸樣品的測量。
特點
高速測定：
獨的快照方法可實現高達20 ms的高速測量。
適用于可見光譜：
波長范圍可選標準類型（530nm至750nm）和可見光譜類型（380nm至760nm）。
緊湊型傳感器單元：
光發射和接收的傳感器僅由沒有旋轉機構的光學部件組成，因此非常輕且緊湊，并且不需要定期維護。
豐富的產品陣容：
產品陣容應用廣泛，包括如獨的便攜類型，手動/自動平臺類型，大型基板類型，以及支持大氣/真空環境的內置類型。
用途
透明或半透明薄膜（氧化膜，氮化膜，抗蝕劑，ITO等）的膜厚，折射率，消光系數的測量
規格
| 波長范圍 | 530 ～ 750nm、380 ～ 760nm（選擇） | |
| 點徑 | Φ1mm、Φ0.3mm（選擇） | |
| 入射角度 | 70o固定 | |
| 膜厚再現性 | 1σ = 0.1ｎｍ | |
| 膜厚范圍 | 1nm ～ 2μｍ | |
| 測量時間 | 受光：20ms ～ 3000ms 演算：300ms | |
| 平臺 | 固定類型（Φ150mm以下、可拆卸） | |
| 控制PC | 筆記本類型（帶操作/分析軟件） | |
| 機器構成 | 測量本體（帶固定臺）、控制器BOX、光源單元 操作PC（筆記本型）、使用說明書（CD） | |
