1700度三溫區CVD實驗室設備由單溫區管式爐、真空系統、質子流量計、射頻電源系統系統組成
CVD設備是借助于光放電等方法產生等離子體，光放電等離子體中：電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍，使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應，從而實現薄膜材料生長的一種新的制備技術。通過反應氣態放電，有效地利用了非平衡等離子體的反應特征，從根本上改變了反應體系的能量供給方式低溫熱等離子體化學氣相沉積法具有氣相法的所有優點，工藝流程簡單。
軟件控制系統：該爐配有通訊接口和軟件，可以直接通過電腦控制爐子的各個參數，并能從電腦上觀察到爐子上PV和SV溫度值和儀表的運行情況，爐子的實際升溫曲線電腦會實時繪出，并能把每個時刻的溫度數據保存起來，隨時可以調出。
產品用途：
1700度三溫區cvd實驗室設備是一種特殊的高真空CVD系統，是高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火用的理想產品。
產品參數：
- 產品型號：S-1700PC
- 氣路控制：浮子流量計/質量流量計
- 真空系統：旋片泵/擴散泵/分子泵
- 可選配件：水冷機/數顯真空計
- 溫度：1700℃(可定制)
- 工作溫度：≤1600℃(可定制)
- 加熱元件：優質硅鉬棒
- 溫控方式：智能化30段PID微電腦可編程控制
- 溫控保護：具有超溫及斷偶報警功能
- 熱電偶：B型
- 爐膛材質：高純氧化鋁多晶纖維
- 加熱速率：0-20℃/分
- 恒溫精度：±1℃
- 均勻性：±5℃
- 極限真空：6.0×10-5Pa
- 工作真空：7.6×10-4Pa
- 爐殼結構：雙層殼體帶風冷系統
- 額定功率：6Kw
- 供電電源：110-480V 50/60Hz
- 售后服務：12個月質保，終身保修(易損件除外)
