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環(huán)保APP正式上線

低溫等離子設(shè)備

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱廣東匯鵬環(huán)保科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)
  • 更新時間2022/9/10 11:41:55
  • 訪問次數(shù)211
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環(huán)保設(shè)備,催化燃燒設(shè)備,環(huán)保工程
型號:HPDL-15處理風(fēng)量:15000m3/h外形尺寸:350013501000mm進(jìn)出口尺寸:1000760mm電場數(shù)量:12個高壓電源數(shù)量:3套功率(KW):1.5
低溫等離子設(shè)備 產(chǎn)品信息
低溫等離子設(shè)備工藝概述
/ Process Overview
 
低溫等離子體技術(shù)是近年發(fā)展起來的廢氣處理新技術(shù),低溫等離子體處理廢氣的原理為:當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的放電電壓時,氣體被擊穿,產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解,以達(dá)到降解污染物的目的。
低溫等離子體技術(shù)處理污染物的原理為:在外加電場的作用下,介質(zhì)放電產(chǎn)生的大量高能電子轟擊污染物分子,使其電離、解離和激發(fā),然后便引發(fā)了一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng),使復(fù)雜大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)楹唵涡》肿影踩镔|(zhì),或使有毒有害物質(zhì)轉(zhuǎn)變?yōu)闊o毒無害或低毒低害物質(zhì),從而使污染物得以降解去除。因其電離后產(chǎn)生的電子平均能量在1eV~10eV,適當(dāng)控制反應(yīng)條件可以實現(xiàn)一般情況下難以實現(xiàn)或速度很慢的化學(xué)反應(yīng)變得十分快速。
電場的設(shè)計使廢氣粒子的運動速度較低,一般在零點幾秒內(nèi)便能使廢氣粒子荷上足夠的電荷,帶電粒子在電場中會受到電場力(庫侖力)的作用,其結(jié)果是油煙粒子被吸附到陽極上。因此凈化率非常高,而且特別適用于捕捉粒徑較小和重量較輕的廢氣粒子。
低溫等離子設(shè)備產(chǎn)品參數(shù)
/ Product parameters

 

型號處理風(fēng)量(m3/h)外形尺寸(長×寬×高)mm進(jìn)出口尺寸(寬×高)mm電場數(shù)量(個)高壓電源數(shù)量(套)功率(KW)交流電壓(V)設(shè)備重量(T)風(fēng)阻(Pa)
HPDL-0550001300×1350×10001000×760410.52200.30≦100
HPDL-10100002400×1350×10001000×7608212200.55≦100
HPDL-15150003500×1350×10001000×7601231.52200.85≦100
HPDL-20200002400×1350×18001000×160016422201.15≦100
HPDL-30300003500×1350×18001000×160024632201.60≦200
HPDL-40400004600×1350×18001000×160032842202.15≦200
HPDL-50500005700×1350×18001000×1600401052202.70≦200
HPDL-60600003500×2700×18002080×1600481262203.2≦200
HPDL-80800004600×2700×18002080×1600641682204.4≦250
HPDL-90900003500×2700×26402080×2440721892205.0≦400
HPDL-1001000005700×2700×18002080×16008020102205.50≦300

 

低溫等離子設(shè)備工藝流程
/ Technological process
 

 

 

 

廢氣處理設(shè)備-低溫等離子設(shè)備-工藝流程圖

低溫等離子設(shè)備產(chǎn)品特點
/ Product features
 
高效的處理效果
運行費用低
維護(hù)方便
模塊化
占地面積小
 
廢氣處理設(shè)備-低溫等離子設(shè)備-產(chǎn)品圖
 
關(guān)鍵詞:高壓電源
15168338725
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