該設備是一款帶有預熱系統的滑動PECVD系統。該系統包含等離子射頻電源，預熱爐，滑動式管式爐，4通道質量流量供氣系統和旋片泵組成。可用于生長納米或CVD方法來制作各種薄膜。
產品用途：
PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。 該系統廣泛應用于沉積高質量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬質薄膜、光學薄膜和炭納米管（CNT）、石墨烯材料等。是應用于生長納米線或用CVD方法來制作各種薄膜的一款新的探索工具。
技術參數：
| 產品名稱 | 帶預熱系統滑動式PECVD設備 |
| 滑軌管式爐部分 | |
| 產品型號 | PT-T1200-S06LC |
| 爐管尺寸 | 60*長度1600mm 可選其他直徑Φ50，80，100，120，150mm |
| 爐管材質 | 石英管 |
| 加熱區 | 雙溫區，每個溫區長度200mm |
| 工作溫度 | 1100℃ |
| 溫度 | 1200℃ |
| 溫控方式 | K型熱電偶 |
| 控制方式 | 觸屏控制 |
| 控溫精度 | ±1℃ |
| 溫控保護 | 具有超溫和斷偶保護功能 |
| 升溫速率 | 0-20ºC/min可調 ，建議10ºC/min |
| 加熱元件 | 含鉬電阻絲 |
| 工作電壓 | AC 220V 單相 50HZ （電路電壓用戶可選擇定制） |
| 加熱功率 | 3KW |
| 爐膛材料 | 氧化鋁多晶纖維 |
| 爐體結構 | 爐體帶滑軌，可實現快速升溫和降溫 |
| 法蘭接頭 | 標配配有兩個不銹鋼真空法蘭，已安裝機械壓力表和不銹鋼截止閥 |
| 密封系統 | 該爐爐管與法蘭之間采用硅膠O型圈擠壓密封、撤卸方便、可重復撤卸，氣密性好。 |
| 預熱爐 | |
| 主要參數 | 溫度1100度 ，多段程序控溫，可將固體和液體原料放在預熱爐中，氣化后與氣體原料相混合 |
| 真空系統部分 | |
| 主要參數 | 采用機械，可實現爐管內的真空 |
| 氣路系統部分 | |
| 名稱 | 四路質量流量計（量程可選） |
| 等離子電源部分 | |
| 功率范圍 | 0-500W（連續可調） |
| 售后服務 | 質保一年，終身保修（耗材類：高溫密封圈、爐管、加熱元件等及人為損壞不屬于質保范圍） |
| 更多規格可根據客戶需求定制 | |
