該設備是一款帶有預熱系統的滑動PECVD系統。該系統包含等離子射頻電源,預熱爐,滑動式管式爐,4通道質量流量供氣系統和旋片泵組成。可用于生長納米或CVD方法來制作各種薄膜。
產品用途:
PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。 該系統廣泛應用于沉積高質量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬質薄膜、光學薄膜和炭納米管(CNT)、石墨烯材料等。是應用于生長納米線或用CVD方法來制作各種薄膜的一款新的探索工具。
技術參數:
產品名稱 | 帶預熱系統滑動式PECVD設備 |
滑軌管式爐部分 | |
產品型號 | KJ-T1200-S06LC-YR |
爐管尺寸 | 60*長度1600mm 可選其他直徑Φ50,80,100,120,150mm |
爐管材質 | 石英管 |
加熱區 | 雙溫區,每個溫區長度200mm |
工作溫度 | 1100℃ |
溫度 | 1200℃ |
溫控方式 | K型熱電偶 |
控制方式 | 觸屏控制 |
控溫精度 | ±1℃ |
溫控保護 | 具有超溫和斷偶保護功能 |
升溫速率 | 0-20ºC/min可調 ,建議10ºC/min |
加熱元件 | 含鉬電阻絲 |
工作電壓 | AC 220V 單相 50HZ (電路電壓用戶可選擇定制) |
加熱功率 | 3KW |
爐膛材料 | 氧化鋁多晶纖維 |
爐體結構 | 爐體帶滑軌,可實現快速升溫和降溫 |
法蘭接頭 | 標配配有兩個不銹鋼真空法蘭,已安裝機械壓力表和不銹鋼截止閥 |
密封系統 | 該爐爐管與法蘭之間采用硅膠O型圈擠壓密封、撤卸方便、可重復撤卸,氣密性好。 |
預熱爐 | |
主要參數 | 溫度1100度 ,多段程序控溫,可將固體和液體原料放在預熱爐中,氣化后與氣體原料相混合 |
真空系統部分 | |
主要參數 | 采用機械,可實現爐管內的真空 |
氣路系統部分 | |
名稱 | 四路質量流量計(量程可選) |
等離子電源部分 | |
功率范圍 | 0-500W(連續可調) |
售后服務 | 質保一年,終身保修(耗材類:高溫密封圈、爐管、加熱元件等及人為損壞不屬于質保范圍) |
更多規格可根據客戶需求定制 |
1、我公司對所供設備提供質保一年保修服務(易損件除外),在保修期內因設備質量原因造成的設備損壞或故障,均予以免費維修。保修期滿后,仍提供終身的、優質的維修服務。
2、在設備使用過程中如遇故障的,我公司將盡快做出處理方案,確保設備正常運行。
3、我公司設提供免費的設備操作培訓和簡單故障排除維修培訓。
4、我公司技術人員可提供(產品安裝調試、整機維護、技術講解及操作指導等)。
5、本公司可提供運輸服務,包裝方式均按照標準安全包裝進行。隨機技術資料齊全(用戶手冊、保修手冊、有關資料及配件、隨機工具等)。
6、本公司所有產品均有歐盟CE質量認證。