我們采用NH3激光氣體分析儀分析微量NH3。系統（包括測量池）采用全程加熱，保證樣品氣體溫度，防止有水析出而對NH3的大量溶解影響分析結果。探頭采用電加熱過濾探頭，在取樣出就完成樣品的凈化，減小了后級預處理的負荷，大大降低了器件的故障率。系統設計有探頭自動反吹程序及儀表自動標零程序，正常運行后僅需要正常的巡檢即可。傳輸管線采用復合電伴熱管纜，并控制在2m以內，整個預處理全部集成在高溫加熱盒內，系統緊湊以避免長距離傳輸管路對NH3的吸附。
氨逃逸檢測系統是西安南斗電子科技有限公司具有多年在國內外從事可調諧半導體激光光譜分析技術研發、掌握TDLAS核心技術并積累豐富經驗的技術專家、研發團隊精心打造而成的氣體監測設備。測量快速、準確、穩定、不受背景氣體干擾。
NH3分析儀是西安南斗電子科技有限公司采用可調諧半導體激光光譜技術研制而成。以高穩定性、低噪聲的可調諧激光器為光源，可有效克服背景氣體、粉塵等因素干擾，實現準確、快速測量。
? 適應高溫、強腐蝕性氣體的在線檢測,采用非接觸光學檢測技術，對各類高溫氣體進行直接分析，針對各類腐蝕性氣體的檢測應用，選用特制的測量氣體室以及高溫伴熱等方式，有效防止氣體對儀器的腐蝕，滿足各類應用要求。
?系統無漂移，避免了定期校正需要，NH3分析儀采用波長調制光譜技術，并且進行動態的補償，實時鎖住氣體吸收譜線，不受溫度、壓力以及環境變化的影響，不存在漂移現象。
NH3氣體分析系統現場安裝靈活，光學非接觸測量不易被腐蝕，光強不受煙氣粉塵影響，抗機械振動能力強，測量不受溫度和壓力等過程參數影響。具有測量精度高（達0.1ppm),抗力強、維護簡單,運行成本低等諸多優勢，可滿足脫硝工藝中氨逃逸檢測需求。
檢測工藝點及測量組分
●檢測工藝點：脫銷氨逃逸檢測 ●分析組分：NH3
系統主要技術指標
●系統響應時間：1秒 ●測量范圍：0-50ppm（可定制）
●測量精度:±1%F.S ●穩定性：無漂移
●氣體壓力:25—2000mbar ●校正:出廠設定
●系統維護周期：1年 ●系統可靠性： MTBF≥1年●信號輸出：RS-232或RS-482/4～20mA隔離電流信號。
●輸出信號：4～20mA，控制報警信號NO/NC
●工作電源：220VAC50HZ ●工作氣源：儀表級壓縮空氣
●環境溫度:-10℃—50℃ ●伴熱溫度:190℃
●安裝方式:在位式
