精密烤膠機,高精度烘膠臺研制背景:
光刻工藝及其相關技術是微電子機械系統(tǒng)(MEMS)加工工藝的重要組成部分.均膠和烘干是光刻工藝中*的一道工序,為增加膠層與硅片表面粘附能力,提高在接觸式曝光中膠層與掩模版接觸時的耐磨性能及穩(wěn)定膠層的感光靈敏度,通常采用烘箱或熱板等加熱設備對光刻膠進行干燥.由于熱板易于達到在膠的厚度方向快速均勻烘干等要求,目前越來越多地采用電熱板加熱的方式. 熱板的表面溫度均勻性,溫度控制精度,溫度上升速度等是熱板的主要性能指標.我司針對研究的需要設計了一種溫度控制精度高,板面溫度均勻性好,成本低的電加熱板,用于光刻膠的烘干.
精密烤膠機,高精度烘膠臺應用行業(yè):
用于晶圓的單面烘烤,可用于預烘烤(Pre-bake),前烘(soft bake),底膠涂覆(Primer Vapor)和后烘烤(hardbake堅膜)工藝。適應于半導體硅片,掩膜版(光罩),柔性電路,載玻片,晶片,基片,ITO導電玻璃等工藝,制版的表面涂覆后,薄膜烘干,固化。
精密烤膠機的性能:
加熱面積尺寸:160mm*160mm、220mm*220mm,多尺寸,多工位定制
控溫范圍:室溫--200、300℃
溫度分辨率 :0.1℃
溫度波動度:≤±0.5℃
溫度均勻性:≤±0.5℃
電源輸入:AC220V 10A
加熱功率:1500W
熱板表面:由硬質陽極氧化鋁制成
可定制功能:
支撐pin材料
邊緣支撐pin
N2吹掃,無氧化烘烤
烘焙距離可調模組
真空腔體
智能控制系統(tǒng)