要特點
智能PECVD設備是目前型的一款設備，將所有的控制部分集為一體，此款設備是我司在2013年獲得的設備。高溫真空加熱爐溫度控制系統采用經典的閉環負反饋控制系統，控溫儀表選用智能型程序溫度調節儀表控溫，電力調制器控制；負載采用小電壓大電流控制，從而大大提高了發熱元件的壽命，測溫元件采用K型熱偶。采用單回路溫控儀能夠自整定PID 參數，無須操作人員的干預，可自行根據不同溫度曲線的升、降溫要求調整輸出信號，同時系統設置了超溫、欠溫、斷偶報警保護功能，大大降低了對操作人員經驗的要求，關鍵電氣元件采用優質的進口產品，做到高性能、免維護，提高了設備質量的可靠性。適用范圍寬:金屬薄膜，陶瓷薄膜等，復合薄膜，連續生長各種薄膜等。增加功能容易，可擴展等離子清洗刻蝕等功能。
1.薄膜沉積速率高：射頻輝光技術，大大的提高了薄膜的沉積速率，沉積速率可達10?/S；
2.大面積均勻性高：采用了*的多點射頻饋入技術，特殊氣路分布和加熱技術等，使得薄膜均勻性指標達到8%；
3. 一致性高：用半導體行業的*設計理念，使得一次沉積的各基片之間偏差低于2%；
4. 工藝穩定性高：高度穩定的設備保證了工藝的連續和穩定；
5.號：ZL.0 （產品，防偽必究）。
加熱系統
Z高溫度 | 1200℃（1 hour) |
使用溫度 | ≤1100℃ |
爐膛有效尺寸 | Φ60*1650mm（爐管直徑可根據實際需要定制。） |
爐膛材料 | 氧化鋁、高溫纖維制品 |
熱電偶類型 | K型熱電偶 |
控溫精度 | ±1℃ |
控溫方式 | ?30段可編程控溫，PID參數自整定， ?操作界面為10”工控電腦，內置PLC控制程序， ?可將溫控系統、滑軌爐滑動（時間和距離）設定為程序控制。 |
加熱長度 | 200+200mm |
恒溫長度 | 200mm |
加熱原件 | 電阻絲 |
供電電源 | 單相，220V，50Hz |
額定功率 | 3KW |
PE射頻電源
信號頻率 | 13.56 MHz±0.005% |
功率輸出范圍 | 500W |
Z大反射功率 | 500W |
射頻輸出接口 | 50 Ω, N-type, female |
功率穩定度 | ±0.1% |
諧波分量 | ≤-50dbc |
供電電壓 | 單相交流（187V-253V） 頻率50/60HZ |
整機效率 | >=70% |
功率因素 | >=90% |
冷卻方式 | 強制風冷 |
四路質子流量控制系統
外形尺寸 | 600x600x650mm |
連接頭類型 | 雙卡套不銹鋼接頭 |
標準量程（N2) | 50sccm，100sccm、200sccm；500sccm （可根據用戶要求定制） |
準確度 | ±1.5% |
線性 | ±0.5～1.5% |
重復精度 | ±0.2% |
響應時間 | 氣特性：1～4 Sec，電特性：10 Sec |
工作壓差范圍 | 0.1～0.5 MPa |
Z大壓力 | 3MPa |
接口 | Φ6,1/4'' |
顯示 | 4位數字顯示 |
工作環境溫度 | 5~45高純氣體 |
壓力真空表 | －0.1～0.15 MPa, 0.01 MPa/格 |
截止閥 | Φ6 |
內外雙拋不銹鋼管 | Φ6 |
低真空機組VAU-02
空氣相對濕度 | ≤85% |
工作環境 | 5℃～40℃ |
工作電電壓 | 220V±10% 50~60HZ |
功率 | 1千瓦 |
抽氣速率 | 10m3/h |
極限真空 | 5X10-1Pa |
工作壓力范圍 | 1.01325X105～1.33X10-2Pa |
耐壓值 | 0.03MPa |
容油量 | 1.1L |
進氣口口徑 | KF25 |
排氣口口徑 | KF25 |
噪音 | 50dB |
外形尺寸 | 600×600×600mm |
連接方式 | 采用波紋管，手動擋板閥與波紋管相連 |
電阻真空計參數： | |
配用規管： | ZJ-52T電阻規， |
測量范圍： | 10 5 ～10 -1 Pa， |
測量路數： | 1路 |
控制范圍： | 5×10 3 ～5×10 -1 Pa， |
控制方式： | 繼電器觸點輸出，負載能力 AC220V/3A (或DC28V/3A)無感負載， |
電源： | 90-260V/50Hz或220V ± 10% 50Hz， |
功耗： | 20W |
