凈化水設備是將原水經過一定的凈化工藝后，使得出水水質達到或滿足一定用水標準的制備工藝，常見的凈化水設備不僅包括家用凈水器，在水質較差、飲水困難、人口密集的地區，生活日常用水（洗菜、燒水、做飯、洗澡）等受到影響時，單靠一臺家用凈水器難以解決問題，而大型凈化水設備便可以在此時派上用場。
反滲透是制取各行業純水最主要的設備，也是最基本的工藝，但是各行業用水標準不同，有的需要出水電導率〈10us/cm（我國飲用純凈水標準是電導率〈10us/cm）有的需要電阻率大于10兆（10Ω.CM）比如電池行業用超純水，有的需要電阻率更大的超純水18.2兆歐（18.2Ω.CM）等，各行業雖然用水標準不同，但是制取純水的工藝大同小異，都是在反滲透的基礎上外加其他工藝制取各行業用純水
反滲透設備出水水質在各行業應用：
電導率≤10μS/CM 普通化工原料配料用水、食品行業配料用水，普通電鍍行業沖洗用去離子水、紡織印染用除硬脫鹽純水、聚脂切片用純水、精細化工用水、民用飲用純凈水用水、其它有相同水質要求的用水.
電導率≤5μS/CM 電鍍化學品生產用水、化工行業表面活性劑生產用水、白酒生產用純水、啤酒生產用純水、民用飲用純凈水用水，其它有相同水質要求的用水.
電阻率5~10MΩ.CM 鋰電池生產用水、蓄電池生產用水、電廠鍋爐用純水、化工廠配料用水、其它有相同水質要求的用水.
電阻率:10~15MΩ.CM 實驗室用水、玻殼鍍膜沖洗用水、電鍍用純水、鍍膜玻璃用水、其它有相同水質要求的用水.
電阻率≥15 MΩ.CM 無菌水、口服液用水、電子行業鍍膜用水、光學材料清洗用水、電子陶瓷行業用純水、磁性材料用純水、其它有相同水質要求的用水.
電阻率≥17 MΩ.CM 磁性材料鍋爐用軟化水、敏感新材料用水、半導體材料生產用水、金屬材料用水、防老化材料實驗室用水、有色金屬，貴金屬冶煉用水、鈉米級新材料生產用水、航空新材料生產用水、太陽能電池生產用水、水晶片生產用水、實驗室用高純水、其它有相同水質要求的用水.
電阻率≥18 MΩ.CM ITO導電玻璃制造用水、化驗室用水、電子級無塵布生產用水等其它有相同水質要求的用水
現為您介紹各種出水水質工藝流程：
出水水質電導率≤10μS/CM
原水——增壓泵——多介質過濾器——活性碳過濾器——軟化器（可選）——精密保安過濾器——高壓泵——RO一級反滲透裝置——紫外線殺菌器——純水箱
出水水質電導率≤5μS/CM
原水——增壓泵——多介質過濾器——活性碳過濾器——軟化器（可選）——精密保安過濾器——高壓泵——RO一級反滲透裝置——高壓泵——RO二級反滲透裝置——純水機——用水點
出水水質電導率≤1μS/CM
一級RO反滲透設備＋混床陰陽離子交換系統，確保處理后出水電導率達到≤0.1μs/cm（電阻≥10MΩ.CM）
出水電阻率：≥18MΩ.CM
預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象
出水電阻率≥15-17MΩ.CM
預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→二級反滲透→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象
從上可以看出雖然不同的出水水質要求的生產工藝不同，但是它們都是在反滲透的基礎上外加EDI工藝、離子交換工藝、混床工藝等，用以制取各行業用水設備。
反滲透+拋光混床工藝實拍圖：出水水質達到15MΩ.CM
優點：
反滲透技術是當今世界上*、效、的膜分離技術，與前置預處理系統配套使用，具有工藝*、操作簡便、運行費用低、無污染、維護方便等優點；利用高壓泵的加壓，反滲透膜的截留，可有效去除水中固體溶解物、有機物、膠體、微生物以及細菌等雜質。具有應用范圍廣、主動化程度高、占地少、能耗低、出水水質好等優點。
應用領域：
1、制取電子工業生產如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬盤、集成電路芯片、單晶硅半導體等工藝所需的純水、高純水；
2、制取熱力、火力發電鍋爐，廠礦企業中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水；
3、制取醫藥工業所需的科研大輸液、注射劑、藥劑、生化制品純水、科研無菌水及人工腎透析用純水等；
4、制取飲料（含酒類）行業的飲用純凈水、蒸餾水、礦泉水，酒類釀造水和勾兌用純水；
5、海水、苦咸水制取生活用水及飲用水；
6、制取電鍍工藝用去離子水；電池（蓄電池）生產工藝的純水；汽車、家用電器、建材產品 表面涂裝、清洗沌水；鍍膜玻璃用純水；紡織印染工藝所需的除硬除鹽水；
7、石油化工業如化工反應冷卻水；化學藥劑、化肥及精細化工、化妝品制造過程用工藝純水；
8、賓館、樓宇、社區機場房產物業的優質供水網絡系統及游泳池水質凈化；
9、線路板、電鍍、電子工業廢水處理及回用； 反滲透設備流程工藝圖
10、生活、醫院、制革、印染、造紙工業廢水及垃圾滲瀝液的處理技術因具有特殊的*性而得到日益廣泛的
