GMD2000黑磷納米片分散液分散機
一、黑磷納米片分散液分散機，新型二維半導體材料研磨分散機，黑磷納米片分散液均質機，黑磷納米片分散液混合機，黑磷納米片分散液制備設備
二、黑磷是黑色有金屬光澤的晶體，是用白磷在很高壓強和較高溫度下轉化而形成的。 黑磷在磷的同素異形體中反應活性很弱的，它在空氣中不會點燃。
三、黑磷納米片分散液特性及應用：
1.特性：
厚度：1-10層
片徑：100 nm-5μm
濃度：0.2 mg/ml
2.應用：
1.半導體
2.場效應晶體管（FET）
3.各向異性
4.光電平臺
5.透明電子
6.寬帶偏振器
四、黑磷納米片分散液的制備方法：
將黑磷塊體浸入有機溶劑中，并進行攪拌，其中，所述攪拌的轉速為8000-14000轉/分，所述攪拌的時間為20-30h；再將上述攪拌后得到的溶液進行低速離心，收集上清液，并對所述上清液進行高速離心，去除上清液，收集固體沉淀，所述固體沉淀即大尺寸黑磷片。該方法操作簡單、條件溫和、價格低廉、重現性好、產量高，制備過程無需震蕩、超聲，易實現低成本產業化生產。所述大尺寸黑磷片的橫向尺寸為5-25m，可應用于光電器件或傳感器制備等領域。
針對黑鱗未來市場的應用前景，上海SGN/思峻公司結合德國核心技術研發出了新型黑磷納米片分散液制備機械——SGN黑磷納米片分散液分散機，該設備是由膠體磨和分散機組合而成的設備，轉速高達14000rpm，擁有強大的剪切力。
五．SGN黑磷納米片分散液分散機結構：
SGN分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。
一級由具有精細度遞升的3級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。
GMD2000黑磷納米片分散液分散機
六SGN研磨分散機選型表：
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150
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黑磷納米片分散液分散機，新型二維半導體材料研磨分散機，黑磷納米片分散液均質機，黑磷納米片分散液混合機，黑磷納米片分散液制備設備
