氣體分析儀技術(shù)原理
半導(dǎo)體激光吸收光譜技術(shù)—利用激光能量被氣體分子“選頻”吸收形成吸收光譜的原理來測(cè)量氣體濃度。半導(dǎo)體激光器發(fā)射出特定波長(zhǎng)激光束(僅被被測(cè)氣體吸收),穿過被測(cè)氣體時(shí),激光強(qiáng)度的衰減與被測(cè)氣體濃度成一定函數(shù)關(guān)系,因此,通過測(cè)量激光強(qiáng)度衰減信息就可以分析獲得被測(cè)氣體的濃度。
LGA 系列氣體分析儀采用以下*技術(shù),從根本上解決傳統(tǒng)采樣預(yù)處理帶來諸如響應(yīng)滯后、維護(hù)頻繁、易堵易漏、易損件多和運(yùn)行費(fèi)用高等各種問題。
原理特點(diǎn)
“單線光譜”技術(shù)——不受背景氣體交叉干擾的影響
激光頻率掃描技術(shù)——自動(dòng)修正粉塵和視窗污染對(duì)測(cè)量濃度的影響
環(huán)境參數(shù)變化自動(dòng)修正技術(shù)——消除氣體環(huán)境參數(shù)(溫度和壓力等)變化對(duì)測(cè)量的影響
測(cè)量氣體參數(shù)
氣體 | 測(cè)量精度 | 測(cè)量范圍 |
O2 | 100ppm | 0-1% Vol.,0-99%Vol. |
CO | 10 ppm | 0-1000ppm,0-99%Vol. |
CO2 | 10 ppm | 0-2000ppm,0-99%Vol. |
H2O | 0.3 ppm | 0-10ppm,0-99%Vol. |
H2S | 20 ppm | 0-200ppm,0-99%Vol. |
HF | 0.02 ppm | 0-1ppm,0-99%Vol. |
HCl | 0.1 ppm | 0-7ppm,0-99%Vol. |
HCN | 0.3 ppm | 0-20ppm,0-1%Vol. |
NH3 | 0.1 ppm | 0-10ppm,0-99%Vol. |
CH4 | 0.4 ppm | 0-200ppm,0-99%Vol. |
C2H2 | 0.1 ppm | 0-10ppm,0-99%Vol. |
C2H4 | 0.6 ppm | 0-100ppm,0-99%Vol. |
CH3I | 0.6 ppm | 0-100ppm,0-99%Vol. |
氣體分析儀簡(jiǎn)介
LGATM系列激光在線氣體分析儀是基于半導(dǎo)體激光吸收光譜(DLAS)技術(shù)的激光分析系統(tǒng),能夠在各種環(huán)境(尤其是高溫、高壓、高粉塵、強(qiáng)腐蝕等惡劣環(huán)境下)進(jìn)行氣體濃度等參量的在線測(cè)量,并具有準(zhǔn)確性高、響應(yīng)速度快、可靠性高、運(yùn)行費(fèi)用低等特點(diǎn),為生產(chǎn)優(yōu)化、能源回收、安全控制、環(huán)保監(jiān)測(cè)和科研分析帶來的方便,在鋼鐵冶金、石油化工、環(huán)境保護(hù)和能源電力等行業(yè)已得到廣泛的應(yīng)用。
2005年,榮獲中國(guó)儀器儀表學(xué)會(huì)科學(xué)技術(shù)獎(jiǎng)
2005年,榮獲“浙江省科學(xué)技術(shù)獎(jiǎng)一等獎(jiǎng)”
2006年,榮獲“國(guó)家科學(xué)技術(shù)進(jìn)步獎(jiǎng)二等獎(jiǎng)”
2006年,被認(rèn)定為“國(guó)家重點(diǎn)新產(chǎn)品”
2007年,牽頭制定“可調(diào)諧激光在線氣體分析儀”國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
2008年,代表中國(guó)牽頭制定“可調(diào)諧激光類氣體分析儀”IEC標(biāo)準(zhǔn)
2009年,榮獲*局“第十一屆中國(guó)金獎(jiǎng)”
2012年,發(fā)布《GB-T25476-2010可調(diào)諧激光系列氣體分析儀》國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
2013年, 牽頭制定并發(fā)布《HG/T 4376-2013化工用在線激光微量水分析儀》行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)
2013年, 發(fā)布《IEC 61207-7EXPRESSION OF PERFORMANCE OF GAS ANALYZERS - Part 7:Tunable semiconductor laser gas analyzers》標(biāo)準(zhǔn)
2018年,牽頭起草并發(fā)布《HG/T 5227-2017流態(tài)化催化裂化再生煙氣激光類氣體分析儀》行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)
已授權(quán)有效專li74項(xiàng),其中外觀設(shè)計(jì)1項(xiàng);已授權(quán)13項(xiàng)軟件著作權(quán)